随着业界对各类光刻设备的需求增长，ASML迎来了本年度第三季度的销售额大幅增长。极紫外（EUV）光刻机的收入确认有助于将今年第三季度的收入推向24.5亿欧元，比预期高出一个百分点，同比增长35％。

5.57亿欧元的季度净收入接近预期水平，ASML公司的EUV光刻机初期销售利润低于技术更成熟的深UV（DUV）步进系统。

年销售额破记录

由于本季度出货三台EUV系统，预计在2017年年底前推出六台，年销售额约86亿欧元。这比2016年创纪录销售额68亿欧元增长25％，而ASML的高管们现在不愿意透漏2018年的预期销售额，他们持续看好行业发展，承诺在EUV收入中，随着年度工具出货量明年增加到20台。

虽然在最近一个季度没有收到EUV设备新订单，但首席财务官Wolfgang Nickl表示，虽然采购订单仍然“有点起伏”，但他相信今年年底之前还会有更多的订单。

EUV光刻机目前正由芯片制造商备货，到明年年底和2019年初量产产量增加在交付。目前，ASML预计将在2019年发货超过30台EUV系统，但是Nickl表示说如果有必要将增加这一数字。

目前ASML的57亿欧元销售积压（约25.7亿欧元）的45％左右与EUV设备直接相关，每种复杂光刻机德售价都超过1亿欧元。

大功率二氧化碳激光器、相关的耐磨激光光学器件和EUV反射镜都占光刻机成本很大比例，主要合作伙伴包括激光制造商通快集团和光学巨头卡尔蔡司。

EUV生态系统进展

ASML表示，最近通过其EUV防护薄膜技术进行了功率能力测试，该技术用于在晶片曝光期间保护面罩免受颗粒的影响，测试结果表明目前的设计可以承受250 W的EUV功率。

该公司还出货了与ASML在去年收购的电子束设备公司HMI共同开发的第一个产品：“ePfm5”图形计量工具将用于检测亚纳米尺寸特征尺寸处理的晶圆缺陷 - 目前光学检测需要达到的水平。

Nickl称推出电子束和计算光刻技术相结合的工具“非常重要”，因为它有助于完成技术成功所需的更广泛的EUV“生态系统”，最终有助于芯片制造商实现更高的晶圆产量，一旦他们开始使用EUV设备在其即将推出的器件设计中绘制关键层。

同时，特别是内存芯片制造商继续订购ASML的DUV光刻设备。在最近一个季度，内存制造商占新收到订单21.5亿欧元的77％。上一季度的新订单数字略有下降，部分原因在于没有新的EUV活动。